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晶盛机电首条12英寸碳化硅衬底加工中试线正式通线,SiC衬底应用打开公司成长空间
发布时间:2025.09.29 浏览次数:80

英伟达GPU芯片从H100到B200均采用CoWoS封装(芯片-晶圆-基板)技术。CoWoS通过将多个芯片(如处理器、存储器等)高密度地堆叠集成在一个封装内,显著缩小了封装面积,并大幅提升了芯片系统的性能和能效。但随着GPU芯片功率增大,将众多芯片集成到硅中介层容易导致更高的散热需求。(1)单晶碳化硅是一种具有高导热性的半导体,其热导率达到490 W/m·K,比硅高出2–3倍,是高性能CoWoS结构中介层的理想材料。(2)与硅中介层相比,单晶SiC还具有更好的耐化学性,因此可以通过刻蚀制备出更高深宽比的通孔,进一步缩小CoWoS封装尺寸。美国尼尔森科学采用的350 μm碳化硅能够制备出109:1的碳化硅中介层,显著高于常规硅中介层的17:1深宽比。

基底材料的折射率越高,AR镜片的FOV就更大,单层SiC镜片即可实现80度以上FOV,可以提供更轻薄的尺寸和更大更清晰的视觉效果。高折射率同样可以有效解决光波导结构中的彩虹纹和色散问题。高导热性则有效提升了AR眼镜的散热能力和性能表现。同时,SiC材料的高硬度和热稳定性亦支持刻蚀工艺的引入,有效提升产能和良率。

晶盛目前已经攻克12英寸碳化硅晶体生长中的温场不均、晶体开裂等核心难题,实现了12英寸超大尺寸晶体生长的技术突破,成功长出12英寸导电型碳化硅晶体。

 

盈利预测与投资评级

    我们维持公司2025-2027年归母净利润预测为10/12/15亿元,对应当前PE为58/47/38倍,维持“买入”评级。